@HelsinkiALD

Thin films and nanostructured materials. "The Helsinki group" in ALD research. World leading expertise in ALD chemistry but also topics beyond ALD.

 Univ. Helsinki, Finland
helsinki.fi/en/researchgroups/helsinkiald
Joined November 2016
  • Tweets769
  • Following88
  • Followers780
205Media
Easy to recycle Pd precursor - condense, collect and recrystallize. Reductive Thermal ALD of Pd and Pd2Ge From a Novel Recyclable Palladium Chloride Adduct - Vihervaara - Advanced Materials Interfaces - Wiley Online Library onlinelibrary.wiley.com/doi/…

Reductive Thermal ALD of Pd and Pd2Ge From a Novel Recyclable Palladium Chloride Adduct

Thermal reductive atomic layer deposition of Pd and Pd2Ge is realized from dichlorobis(triethylphosphine)palladium(II), a novel fully recyclable precursor. The metal precursor is synthesized and...

advanced.onlinelibrary.wiley.com
5
911
🇩🇪German doctor, German style hat, opponent from Germany and party in a German restaurant 🇩🇪 Sword and opponent still Finnish style!🇫🇮 Congratulations, Dr. Alex🥂
1
10
1,146
Alex's day - with Marianna as a custos. And Julien Bacman as the opponent.
1
18
1,328
helsinki.fi/en/innovations-a…

Microchips for future smart devices – Pioneering work by Mikko Ritala’s research group and ASM...

The University of Helsinki and the Dutch-based company ASM have been working together on successful projects for 20 years. It has also enabled establishing an ALD Center of Excellence in Kumpula,...

helsinki.fi
1
7
898
In Finnish, behind the paywall: 50 vuotta sitten fyysikkolegenda Suomesta älysi Neuvostoliiton nenän edestä superkeksinnön, jota ilman nykymaailma sammuisi pian tekniikkatalous.fi/uutiset/t…

50 vuotta sitten fyysikkolegenda Suomesta älysi Neuvostoliiton nenän edestä superkeksinnön, jota...

Viimeisen 20 vuoden aikana elektroniikan valmistus on tullut täydellisen riippuvaiseksi atomikerroskasvatuksesta – joka on yksi suurimmista suomalaiskeksinnöistä koskaan.

tekniikkatalous.fi
1
5
397
Today was Xinzhi's great day! Thank you prof. Antti Karttunen from Aalto Univ. for a great discussion. #HelsinkiChemistry
10
320
Alussa ei ollut hajuakaan, kuinka ongelma ratkaistaan. Piti vain saada litteitä näyttöjä. Siitä se lähti ja nyt ALD on yhä kasvava miljardibisnes. Menetelmän alkuperäinen kehittäjä Tuomo Suntola julisti #ALDALE2024 konferenssin avatuksi @helsinkiALD @KumpulaScience
2
1
16
553
Full room in Tutorials and perspectives in #ALDALE2024
2
11
574
That is us!
Matti Putkonen@matti_putkonen4 Aug 2024
Once again it is time for #ALDALE2024 and group photo of our great @HelsinkiALD team
1
19
380
kemia-lehti.fi/uusi-ald-lait…

Uusi ALD-laitteisto auttaa ohutkalvoprosessien kehitystyössä

Heta Nieminen uppoutui väitöstyössään atomikerroskasvatuksen pintareaktioiden yksityiskohtiin.

kemia-lehti.fi
3
205
When you deposit a metal that is reactive with the reducing agent, you get a carbide. And this one is a superconductor. Happiest people are those who want what they get! Atomic Layer Deposition of Molybdenum Carbide Thin Films onlinelibrary.wiley.com/doi/…

Atomic Layer Deposition of Molybdenum Carbide Thin Films

Molybdenum carbide thin films are deposited by ALD with MoCl5 and 1,4-bis(trimethylgermyl)-1,4-dihydropyrazine [(Me3Ge)2DHP] at 200–300 °C. The films are very smooth and superconductive up to 4.4 K,...

advanced.onlinelibrary.wiley.com
1
2
1
11
823
A bit late post but May 24th it was Peyman's great day. Thank you prof. Carita Kvarnström for excellent and insightful dissertation!
4
352
Keskustelu jatkuu! Ikävä vain että tämä nähdään vastakkainasetteluna - haluamme vain kertoa, että kemia tarjoaa konkreettisen vaihtoehdon maailman parantamiseen ja toisaalta tarvitsee lisää motivoituneita opiskelijoita. suomenkuvalehti.fi/tarinoita…

Tutkija: toisinaan sinä tarvitset aktivisteja! - Tarinoita tieteestä

Mihin tarvitaan mielenosoittajia - eikö olisi vain parempi yrittää kehittää uusia ratkaisuja vaikkapa tieteen alla? Valitettavasti tieteellinen tieto ei vaikuta yhteiskuntaan ollenkaan niin paljon...

suomenkuvalehti.fi
7
280
Helsingin yliopisto | ”Elokapinan nuoret, tervetuloa meille!” Yli­opistolta löytyy tiedekunta, jossa todella parannetaan maailmaa: hs.fi/helsinki/art-200001019…

Helsingin yliopisto | Näitä opiskelijoita revitään työelämään – Taustalla keksintö, joka saattaa...

Väitöskirjatutkija Alexander Weiss ja professori Mikko Ritala Helsingin yliopistolta haluavat haastaa Elokapina-nuoret miettimään sitä, mikä todella on tehokkain tapa parantaa maailmaa.

hs.fi
1
6
342
In our city in exactly two months: ALD/ALE conference returns to Helsinki after 20 years helsinki.fi/en/faculty-scien… We trust #ALDep tools around the world are running hot for the presentations!🌞

ALD/ALE conference returns to Helsinki after 20 years | Faculty of Science | University of Helsinki

The AVS 24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024) featuring the 11th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2024) will take place August 4-7, 2024 at Messukeskus...

helsinki.fi
1
3
2
8
1,267
LEIS has entered the building and been docked to the ALD-UHV cluster! We have a learning curve to climb but the aim is to make it steep. Both in vacuo and ex situ samples have been measured already. linkedin.com/feed/update/urn…
1
4
21
710
And the updated schematics
1
1
326
HelsinkiALD retweeted
AVSALD@AvsAld15 Apr 2024
We hope you all will join us in Finland this August 4-8, 2024, where we celebrate history and the future of Atomic Layer Deposition #ALDALE2024 @AVS_Members youtu.be/zPkx7NfAfn4?si=B3He…
1
5
12
894
Miia is the new chair of Finnish Chemical Society! kemia-lehti.fi/puheenjohtaja…

Puheenjohtaja Miia Mäntymäki: En aio jäädä heiluttelemaan hihoja

Suomalaisten kemistien seuran tuore puheenjohtaja Miia Mäntymäki haluaa nostaa ammattikunnan loistoon ja tunnetuksi.

kemia-lehti.fi
17
316
Elisa deposits presumably the first ALD films that shrink upon heating: Atomic Layer Deposition of ScF3 and ScxAlyFz Thin Films | ACS Omega pubs.acs.org/doi/full/10.102…

Atomic Layer Deposition of ScF3 and ScxAlyFz Thin Films

Abstract. In this paper, we present an ALD process for ScF3 using Sc­(thd)3 and NH4F as precursors. This is the first material made by ALD that has a negat

pubs.acs.org
1
3
14
676
Load more